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AI芯片开发核心技术详解电子书

内容翔实:本书不是单单从某一种芯片、某一家公司或某一种体系结构出发,而是从AI芯片多个相关领域出发,介绍AI芯片当今主流模块是什么、哪些重要技术可以用于AI芯片、光刻机技术与芯片制造的技术分析等。 知识全面:涉及的知识包括电子、半导体、芯片制造、光刻机、口通信、底层驱动、操作系统、系统软件、应用软件、AI算法、算子理论、AI框架、汇编语言、编译部署与C/C /Python语言等。 

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作       者:吴建明 吴一昊

出  版  社:清华大学出版社有限公司

出版时间:2024-12-01

字       数:22.5万

所属分类: 科技 > 计算机/网络 > 计算机理论与教程

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本书力求将芯片基础知识理论与案例实践融合在一起行详细介绍。帮助读者理解芯片相关多个模块发工作原理,同时兼顾了应用发的技术分析与实践。本书包含大量翔实的示例和代码片段,以帮助读者平稳、顺利的掌握芯片发技术。 全书共10章,包括RISC-V技术分析;PCIE,存储控制,以及总线技术分析;NPU发技术分析;CUDA原理与发示例分析;GPU渲染架构与优化技术分析;U-Boot发分析;Linux发分析;光刻机技术分析;芯片制造技术分析;卷积与矩阵相乘编译部署分析。 本书适合从事硬件设计、微电子技术、软件发、编译器发、人工智能,以及算法等方向的企业工程技术人员,也适合高校师生、科研工作人员、技术管理人员参考阅读。  <br/>【推荐语】<br/>内容翔实:本书不是单单从某一种芯片、某一家公司或某一种体系结构出发,而是从AI芯片多个相关领域出发,介绍AI芯片当今主流模块是什么、哪些重要技术可以用于AI芯片、光刻机技术与芯片制造的技术分析等。 知识全面:涉及的知识包括电子、半导体、芯片制造、光刻机、口通信、底层驱动、操作系统、系统软件、应用软件、AI算法、算子理论、AI框架、汇编语言、编译部署与C/C /Python语言等。  实践性强:重介绍如何动手发,如何优化性能,并介绍了很多典型发示例。<br/>【作者】<br/>吴建明,毕业于上海交通大学,专业方向是模式识别与智能系统。长期从事人工智能芯片设计、TVM/LLVM编译器、AI框架、自动驾驶、计算机视觉、图像识别、深度学习、摄像头/相机算法、机器学习、人工智能、视频编解码、芯片制造、嵌式系统、计算机软件等领域的研发工作。主持或参与过30多项产品研发;参与了国家自然基金、上海市科委项目,并在核心期刊以上发表过11篇论文,其中8篇是第一作者。出版图书《TVM编译器原理与实践》《LLVM编译器原理与实践》。<br/>
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内容简介

作者简介

前言

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第1章 RISC-V技术分析

1.1 初识RISC-V

1.2 MCU构成及其运行原理

1.3 RISC-V编译过程分析

1.4 RISC-V启动文件分析

1.5 RISC-V的LD连接脚本说明

1.6 RISC-V MCU栈机制

1.7 RISC-V全局指针寄存器说明

1.8 最易变的关键字volatile

1.9 RISC-V将常量定义到Flash地址

第2章 GPU渲染架构与优化技术

2.1 渲染架构及GPU优化技巧

2.2 IMR与TBR的对比

2.3 传统延迟渲染和TBDR

2.4 光栅顺序组

2.5 延迟渲染源码分析

2.6 示例:图渲染

2.7 小结

第3章 NPU开发技术分析

3.1 NPU加速器建模设计

3.2 异构系统:向量体系结构

3.3 示例:NPU开发

3.4 TPU2机器学习集群

第4章 CUDA原理与开发示例

4.1 CUDA平台的GPU硬件架构

4.2 CUDA原理概述

4.3 CUDA线程结构

4.4 CUDA存储单元及矩阵乘法

4.5 CUDA错误检测与事件

4.6 多种CUDA存储单元

4.7 CUDA流技术

4.8 CUDA矩阵乘法算法分析

4.9 通用GPU架构及基础知识

第5章 PCIE、存储控制与总线的技术分析

5.1 PCIE开发技术分析

5.2 PCIE开发设备热插拔

5.3 PCIE寄存器与关系图

5.4 示例:芯片存储器与控制器测试

5.5 系统总线技术与示例

5.6 拆分总线事务

5.7 示例:总线开发

5.8 关于I/O总线标准

5.9 PC组成:I/O操作、I/O总线和I/O接口

第6章 U-Boot开发分析

6.1 U-Boot开发基础介绍

6.2 移植过程

6.3 U-Boot调试修改

6.4 构建过程

6.5 一些重要的构建模块

6.6 启动阶段

6.7 重定位

第7章 Linux开发分析

7.1 嵌入式Linux环境

7.2 Linux内核Yocto、OpenEmbedded、BitBake详解

第8章 卷积与矩阵相乘编译部署分析

8.1 深度学习中的各种卷积

8.2 LLVM中矩阵的实现分析

第9章 光刻机技术分析

9.1 光刻机基本原理

9.2 光刻机核心设备

9.3 掩模版光刻过程的核心耗材

9.4 光刻是芯片制造最核心环节

9.5 光刻机是人类科技之巅

9.6 光源系统:能量的来源,光刻工艺的首要决定项

9.7 曝光系统:照明系统+投影物镜

9.8 投影物镜系统:精准成像,对线宽起重要作用

9.9 双工作台系统:精确对准+光刻机产能的关键

9.10 芯片制造核心设备应用概述:光刻机

9.11 部分光刻机配套设备

9.12 自研光刻机与光刻机技术分析

第10章 芯片制造技术分析

10.1 芯片制造系列全流程:设计、制造、封测

10.2 半导体全景

10.3 芯片封测技术

10.4 FinFET存储器的设计、测试和修复方法

10.5 基于FinFET的设计:机遇与挑战

10.6 光刻的基本原理

参考文献

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